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产品介绍

PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD设备

产品介绍

PF-300T Altair 系列是我公司自主研发的热原子层沉积(Thermal Atomic Layer Deposition)设备,以高产能PEALD设备核心技术为基础,针对金属薄膜沉积的特殊性,对反应腔模块及关键部件优化设计,实现成本更低,纯度更高的金属薄膜的沉积,可用于沉积AlOx/AlN/SnOx/TiN等多种金属薄膜材料。在7nm及以下制程中有着广泛的应用。


 
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